酷斯特科技3T真空熱壓燒結(jié)爐設(shè)備用途

本設(shè)備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機(jī)化合物、納米材料等在真空或保護(hù)氣氛的條件下進(jìn)行加壓加熱燒結(jié)處理，以便獲得高致密度的產(chǎn)品，例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。

酷斯特科技3T真空熱壓燒結(jié)爐主要技術(shù)參數(shù)

3.1 電源：三相 380V 50Hz

3.2 額定功率：18Kw

3.3 工作溫度：2000℃

3.4 工作區(qū)尺寸：80*120（D*H，mm）

3.5 控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)

3.6 控溫方式：鎢錸熱電偶

3.7 控溫精度：±1℃

3.8 冷態(tài)極限真空度：6.67*10^-4Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）

3.9 壓升率：4Pa/h

3.10 充氣氣氛：惰性氣體

3.11 充氣壓力（微正壓）：≤0.03MPa

3.12 壓力：3T（數(shù)顯、自動調(diào)壓、自動保壓、伺服電動缸）

3.13 壓頭直徑：Ф40 mm

3.14 壓力波動：≤±1%，位移精度≥0.01mm

3.15 壓力行程：0～150mm（數(shù)顯）

3.16 壓力控制：伺服電動控制（3kw伺服電機(jī)控制）